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低溫射頻 真空等離子體清洗設備NE-PE210F
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產品簡介

NE-PE210F是一款中大型真空等離子體清洗設備,適用于大規(guī)模工業(yè)生產使用。等離子體清洗通過其中的活性離子與物體表面發(fā)生化學反應來達到清洗的目的。例如通過氧氣清潔物體表面的有機物,產生氧化反應,氧等離子體和污染物產生二氧化碳、氧化碳和水。通過氮氣電離形成的等離子體可以與部分子結構發(fā)生關鍵反應,因此它也是一種活性氣體,但與氧氣和氫氣相比,顆粒相對較重;在清洗和活化的同時,可以達到一定的轟擊和蝕刻效果,防止部分金屬表面氧化。如今,等離子清洗機廣泛用于當代半導體、電路等行業(yè),在元件封裝前、芯片鍵合前可借助等離子清洗處理,其優(yōu)點是清除效率高,不會對樣品表面造成損傷,從而提升產品的質量。

產品參數(shù)

型號NE-PE210F
等離子頻率射頻13.56MHz 自動阻抗匹配
極限真空度10Pa
功率0-1000W可調
腔體材質316不銹鋼/鋁合金(可選)
腔體尺寸600(W)*600(D)*600(H)mm
腔體容積210L
單層有效處理面積W560mm x D520mm
氣路數(shù)量2路氣體,支持氧氣,氬氣,氮氣,氫氣等,腐蝕性氣體需提前說明
極板間距54mm(可調整)
處理層數(shù)8層(可定制)
控制方式PLC+觸摸屏
真空泵油泵/干泵(可選)
電源AC380V,50/60Hz
外形尺寸1350mm(L)×1200mm(W) ×1850 mm(H)


產品應用

01

提升表面親水性

提升表面親水性

02

提高界面粘接性

提高界面粘接性

03

提高材料表面能

提高材料表面能

04

有機物油污清洗

有機物油污清洗

05

氧化物還原

氧化物還原

06

提高印刷性能

提高印刷性能

應用案例

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